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刻蚀技术

资料介绍
刻蚀技术
§ 1 基本概念
刻蚀：就是通过物理和/或化学方法将下层材料中没有被上
第七章 刻蚀工艺 层掩蔽膜材料掩蔽的部分去掉， 从而在下层材料上
获得与掩蔽膜图形完全对应的图形。

岳瑞峰



清华大学微电子学研究所




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刻蚀的品质因数
实际刻蚀剖面 刻蚀速率：单位时间刻蚀的厚度。
横向刻蚀速度 RL
纵向刻蚀速度 RV

选择比：不同材料的刻蚀速率比.

标签：刻蚀工艺，品质因数，湿法刻蚀，干法刻蚀，RIE，HDP
刻蚀技术
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