光刻1

上传用户：foolish_girl
上传日期：2009-06-14
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资料介绍

光刻1
前面工艺的遗留问题
氧化、扩散、离子注入、外延、金属化等一系列工艺
第六章光刻工艺无疑是制造集成电路不可或缺的重要组成部分，但是
光有这些还远远不够。这些工艺都是对整个硅园片进
行处理，不涉及任何图形。
岳瑞峰在同一集成电路制造流程中，如何在一片硅片上定义、
区分和制造出不同类型、不同结构和尺寸的元件，怎
样把这些数以亿计的元件集成在一起获得我们所要求
清华大学微电子所的电路功能，怎样在同一硅片上制造出具有不同功能

标签：光刻工艺，图形转移，掩膜版，光刻机，波粒二象性

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