第六章光刻工艺（上篇）

上传用户：foolish_girl
上传日期：2009-06-12
文件类型：PDF
文件大小：1351.91K
资料积分：0分积分不够怎么办？

资料介绍

第六章光刻工艺（上篇）
问题？
在同一集成电路制造流程中,经历了同样的一系列加工工艺后：如何在
一片硅片上定义、区分和制造出不同类型、不同结构和尺寸的元件?

如何把这些数以亿计的元件集成在一起获得所要求的电路功能?

第六章光刻工艺如何在同一硅片上制造出具有不同功能的集成电路？

（上篇）
曾莹
清华大学微电子学研究所
zengying@mail.tsinghua.edu.cn

1980年的IC，

标签：光刻工艺，图形转移，掩膜版，光刻机，接触式，接近式，投影式

第六章光刻工艺（上篇）

第六章光刻工艺（上篇）

相关资源光刻工艺，图形转移，掩膜版

相关新闻光刻工艺，图形转移，掩膜版

相关电路光刻工艺，图形转移，掩膜版

相关视频

评论

第六章光刻工艺（上篇）

相关资源 光刻工艺 ，图形转移 ，掩膜版

相关新闻 光刻工艺 ，图形转移 ，掩膜版

相关电路 光刻工艺 ，图形转移 ，掩膜版

相关视频

评论

相关资源光刻工艺，图形转移，掩膜版

相关新闻光刻工艺，图形转移，掩膜版

相关电路光刻工艺，图形转移，掩膜版