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扩散工艺原理

资料介绍
扩散工艺原理
第三章 扩散工艺 三、杂质扩散
§1.扩散原理 1. 恒定表面源扩散
扩散过程中，硅片表面杂质浓度始
§2.典型工艺 终不变这种类型的扩散称为恒定表
面源扩散。其扩散后杂质浓度分布
§3.扩散方法 为余误差函数分布。
重写扩散方程（2－3）：
§4.工艺控制和质量监测
自学 CAI课件 N
= D
2 N (x,t)
2005-3-11 1
标签：扩散原理，杂质扩散，扩散方程，两步扩散，双温区锑扩散
扩散工艺原理
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评论

Bruno· 2009-07-30 22:35:55
好东西，我要下
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