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IC工艺讲稿-清华大学-2003

资料介绍
引 言-1
§1外延
§2氧化
§3扩散
§4离子注入
§5淀积
§6光刻
§7刻蚀
§8金属化
IC虚拟制造-1
IC虚拟制造－2
MEMS1
MEMS2
光刻1
光刻2
刻蚀
扩散讲稿补充两步扩散
IC工艺原理习题
标签：IC工艺讲稿
IC工艺讲稿-清华大学-2003
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IC工艺讲稿-清华大学-2003
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