IC工艺讲稿-清华大学-2003

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IC工艺讲稿-清华大学-2003

所属分类：

集成电路分析与设计

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语言版本：

中文

文档类型：

RAR

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9359.10KB

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文档介绍：

引言-1
§1外延
§2氧化
§3扩散
§4离子注入
§5淀积
§6光刻
§7刻蚀
§8金属化
IC虚拟制造-1
IC虚拟制造－2
MEMS1
MEMS2
光刻1
光刻2
刻蚀
扩散讲稿补充两步扩散
IC工艺原理习题


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