采用Stratix V 管芯仪表克服高速 I/O 验证难题

本文档讨论使用Altera 28-nm Stratix ® V 器件的管芯仪表功能(ODI) 来验证和调试高速I/O。依据摩尔定律，I/O 技术在速度和数据速率上每两到三年就会翻倍。随着I/O 速度和数据速率的提高，出现了新的验证和测试难题。本白皮书阐述验证高速链路所面临的难题，以及Altera 28-nm Stratix V ODI 技术是怎样克服这些难题的，还将介绍ODI 应用。
采用 Stratix V 管芯仪表克服高速
I/O 验证难题

WP-01152-1.0 白皮书




本文档讨论使用 Altera 28-nm Stratix V 器件的管芯仪表功能 (ODI) 来验证和调试
高速 I/O。依据摩尔定律，I/O 技术在速度和数据速率上每两到三年就会翻倍。随着
I/O 速度和数据速率的提高，出现了新的验证和测试难题。本白皮书阐述验证高速链路
所面临的难题，以及 Altera 28-nm Stratix V ODI 技术是怎样克服这些难题的，还将
介绍 ODI 应用。


引言
单个芯片集成了越来越多的晶体管，每一芯片现在可以实现更多的功能，性能也越来
越强。晶体管变得更小更快，逻辑门的速度也越来越快，开关速度不断提高