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IC虚拟制造－2

资料介绍
IC虚拟制造－2
0.5m双阱CMOS 主要内容
前言
工艺优化设计 一、SILVACO虚拟硅片制造软件功能介绍
二、工艺模拟策略
－－集成电路虚拟制


三、器件模拟
四、结构参数和器件参数的提取
造 五、模拟结果与实测结果的比较
六、工艺流程优化设计
清华大学微电子学研究所 七、结论

Virtual Fabricate 2




前言 2.IC 虚拟制造目标
1.双阱工艺技术： 利用SILVACO软件包－－工艺
在亚微米CMOS工艺中，由于强 模拟和器件模拟，进行0.5
标签：集成电路，双阱，CMOS，SILVACO，虚拟硅片，工艺模拟，参数提取，优化设计
IC虚拟制造－2
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