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外延工艺控制

资料介绍
外延工艺控制
xcl




§1.扩散原理
§2. 典型扩散工艺方法 §3 工艺控制和质量检测
§4.工艺控制和质量监测
一.工艺控制
二.质量检测

2005-3-11 1 2005-3-11 2




一.工艺控制 假片和试片
假 假
污染控制:颗粒、有机物、薄膜、金属离子 试
片 片 片
污染来源:操作者,清洗过程,高温处理,工具
参量控制:温度,时间,气体流量(影响最大?)

1.温度控制:源温、硅片温度、升温降温、测温
外延工艺控制
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