首页|嵌入式系统|显示技术|模拟IC/电源|元件与制造|其他IC/制程|消费类电子|无线/通信|汽车电子|工业控制|医疗电子|测试测量
首页 > 分享下载 > 元件与制造 > 光学材料的干法刻蚀研究

光学材料的干法刻蚀研究

资料介绍
摘 要:本文对化学材料二氧化硅的干法刻蚀工艺进行研究,运用反应离子刻蚀设备对二氧化硅进行了刻蚀实验,通过对不同工艺条件下二氧化硅的刻蚀速
率、均匀性等参数对比,最终得出了二氧化硅等同类光学材料最佳的干法刻蚀
工艺条件。
……
标签:光电光学
光学材料的干法刻蚀研究
本地下载

评论