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真空镀知识解析
真空镀膜技术及设备两百年发展历史
随着人们生活水平的不断提高,对各种工艺品、建材、家具、电子产品、汽车、玩具、
灯具等的表面装饰提出了越来越高的要求。对非金属物件表面金属化或金属物件表面美
观化，传统上通常采用电镀的方法。但由于传统电镀毒性大，三废污染特别严重,在人们
环保意识逐步加强的今天,它的发展,已受到了各方各面的制约。
化学镀膜最早用于在光学元件表面制备保护膜。随后，1817年，Fraunhofe在德国用浓
硫酸或硝酸侵蚀玻璃，偶然第一次获得减反射膜，1835年以前有人用化学湿选法淀积了
银镜膜它们是最先在世界上制备的光学薄膜。后来，人们在化学溶液和蒸气中镀制各种
光学薄膜。50年代，除大快窗玻璃增透膜的一些应用外，化学溶液镀膜法逐步被真空镀
膜取代。
真空蒸发和溅射这两种真空物理镀膜工艺，是迄今在工业领域能够制备光学薄膜的两
种最主要的工艺。它们大规模地应用，实际上是在1930年出现了油扩散泵---
机械泵抽气系统之后。
1935年，有人研制出真空蒸发淀积的单层减反射膜。但它的最先应用是1945年以后镀
制在眼镜片上。
1938年，美国和欧洲研制出双层减反射膜，但到1949年才制造出优质的产品。
1965年，研制出宽带三层减反射系统。在反射膜方面，美国通用电气公司1937年制造
出第一盏镀铝灯。德国同年制成第一面医学上用的抗磨蚀硬铑膜。在滤光片方面，德国
1939年试验淀积出金属—介质薄膜Fabry---Perot型干涉滤光片。
在溅射镀膜领域，大约于1858年，英国和德国的研究者先后于实验室中发现了溅射现
象。该技术经历了缓慢的发展过程。
1955年，Wehner提出高频溅射技术后，溅射镀膜发展迅速，成为了一种重要的光学薄
膜工艺。现有两极溅射、三极溅射、反应溅射、磁控溅射和双离子溅射等淀积工艺。
自50年
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